2025年6月24日至26日，第二十三届世界制药原料中国展（CPHI China 2025）在上海新国际博览中心盛大举行。在这场汇聚全球3500余家优质品牌的行业盛会上，宁波微格芯材料科技有限公司以新锐之姿惊艳亮相，向全球专业观众展示了公司高端电子化学品领域的前沿突破。

作为半导体产业链的关键一环，光刻胶技术长期被国际巨头垄断。而这家来自浙江象山经济开发区的科技企业，正以自主创新的微通道连续流工艺，向这一“卡脖子”领域发起强有力的挑战。

宁波微格芯此次参展的核心产品线聚焦于半导体制造的核心材料——KrF、ArF及EUV光刻胶。这些应用于不同制程的高端电子化学品，是现代芯片制造的“血液”。

针对光刻胶原料的高纯度、高质量均一性及金属离子控制等核心指标，公司展示了其突破性的微通道连续流技术平台。该技术通过分子结构设计、合成工艺优化及精密纯化技术三重创新，成功突破了国外技术壁垒。

在展会现场，技术人员向专业观众详细展示了如何通过连续流工艺实现传统反应釜无法达到的精度控制。“我们的技术能够将关键金属离子含量控制在20PPb以下，关键离子满足5PPb以下先进制程的严苛要求。”现场工程师向客人介绍道。

宁波微格芯的展位虽不张扬，却吸引了众多专业人士驻足交流。其背后是公司由海内外知名博士领衔的研发团队，团队成员在有机化学、材料科学和光化学领域平均拥有十余年研发经验。

“我们团队的核心优势在于从实验室研发到规模化量产的全链条技术能力，”公司技术总监在展台交流中表示，“通过微通道连续流技术，实现了传统工艺无法企及的反应精度和过程控制，解决了批次间一致性的行业痛点。”

公司研发团队深耕高制程芯片领域核心材料技术，已建立起完整的自主知识产权体系。这种技术积累使宁波微格芯能够根据客户的不同制程条件、设备参数和应用场景，快速开发适配产品，助力芯片制造企业提升良品率与生产效率。

随着全球半导体产业链重组加速，宁波微格芯材正积极布局未来三至五年的产品线。公司位于象山经济开发区城东工业园的生产基地已具备微通道连续流工艺规模化量产能力，为满足日益增长的市场需求做好了准备。

“我们始终以推动半导体材料国产化替代为己任，”公司创始人陈总表示，“未来五年，将加大研发投入资金，打造具有全球竞争力的高端电子材料矩阵，助力中国半导体产业突破材料瓶颈。”